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水平两室/三室真空炉
发布日期:2021-08-25
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详细介绍

水平两室/三室真空炉

主要用于高性能钐钴、钕铁硼等磁性材料、功能材料的精密真空气氛烧结等工艺。

产品性能:

/三室结构(工艺腔、装卸料腔

等),小批量精密烧结等工艺

高精度温度、压力等全自动控制,快冷工艺

高真空/常压/正压及压力控制下的精密热处理,可带手套箱