水平LPCVD气相沉积-青岛华旗科技有限公司-氧化炉/扩散炉/LPCVD/低压化学气相沉积CVD/HVPE/扩散炉炉体/高温氧化炉/高温退火炉/半导体废气处理SCRUBBER

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水平LPCVD气相沉积: 发布日期：2021-08-25; 浏览次数：次; 咨询电话：13953232103; 下一个产品上一个产品

详细介绍

用于IC集成电路、MEMS、功率器件、纳米技术、光电子器件等领域。

1.水平LPCVD_02.jpg

配套工艺：

多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2

磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG

TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

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