高压晶体生长-青岛华旗科技有限公司-氧化炉/扩散炉/LPCVD/低压化学气相沉积CVD/HVPE/扩散炉炉体/高温氧化炉/高温退火炉/半导体废气处理SCRUBBER

产品分类ProClass: 半导体工艺装备; 真空炉、气氛炉系列; 特气及废气处理系列; 炉体系列; 工厂及装备自动化

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高压晶体生长: 发布日期：2021-08-25; 浏览次数：次; 咨询电话：13953232103; 下一个产品上一个产品

详细介绍

4.晶体生长.jpg

温度：500～2500℃，高温电阻/感应加热器，优化热场设计

多温区石墨坩埚，升降，提拉，等径控制等

腔体压力：1-10MPa，高压容器设计、制造及检测

工艺类型：提拉、PVT

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产品中心: 半导体工艺装备; 真空炉、气氛炉系列; 特气及废气处理系列; 炉体系列; 工厂及装备自动化

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